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[诊断]第2节 头影测量分析及预测

X线头影测量分析(cephalometric analysis)主要是通过在X线侧位头颅定位片描迹图上,标定一些公认的牙颌、颅面结构解剖标志点,然后对由这些点组成的角、线进行测量分析,从而了解牙颌、颅面软硬组织结构关系,使对牙颌、颅面的临床检查、诊断。如果需要作下颌前部根尖下截骨术,应先在下颌模板上制作下颌前部牙骨段模板,作适当的移动,再拼对上、下颌模板为一体。如果上颌前部及后部需要分段作不同方位的移动或需拔牙去骨,则要先剪拼上颌模板,如上颌前突中所述,再移动下颌模板,建立良好的咬合关系。VTO显示了上、 ......

——《实用口腔科学》
书名:《实用口腔科学》
栏目:实用口腔科学 > 上篇 疾病篇 > 第14章 牙颌面发育性畸形
作者:张震康 俞光岩
参编:张筱林,刘宏伟,于世凤,马大权,马文利
页码:323-327
版本:3
出版社:人民卫生出版社
出版时间:2009-06-01
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