用于制备纳米粒的粉碎属于超细粉碎。主要的粉碎方法包括高能球磨法、超声喷雾法(可至20~50nm)、高能振动磨加湿法粉碎(可至几百纳米)、超音速气流粉碎(> 1000nm)、胶体磨、微射流设备,等等。所有机械粉碎要达到纳米级都是比较困难的,对设备要求较高,另外还要注意与设备的长时间接触或者设备的腐蚀可能造成制品的污染。不少设备可以用于大生产。在含有表面活性剂的水中球磨2小时,粒子可达约50nm,粒子分布均匀,但要粉碎到20nm以下约需8小时。湿粒子干燥后可聚集成200nm左右的粒子。如用胶体磨制备纳米粒时,可先将药物粉末分散于表面活性剂溶液中,再将此混悬液在胶体磨中研磨数小时至数天。
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