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[生理学]第三节 釉质溶解的化学反应过程

在龋病过程,造成釉质溶解的始动因素是一些有机酸。釉质表面有由唾液蛋白质形成的获得性膜,在适当的碳水化合物如蔗糖存在的条件下,菌斑中的致龋菌产生有机酸,包括乳酸、乙酸、丙酸等,这些有机酸在菌斑内形成一种浓度梯度,导致氢离子和半解离的酸扩散至釉质表面。在体外人工龋模型中,釉质内与釉质外的溶液之间没有pH梯度,釉质溶解的速度由已溶出的釉质成分的扩散过程来控制。而口内原位脱矿模型,在釉质外液体内有高浓度的脱矿抑制剂如氟离子,蛋白质成分,它们能很快地吸附至磷灰石晶体表面,以至于溶解过程被有效地延迟。因此口内脱矿过程 ......

——《龋病学》
书名:《龋病学》
栏目:龋病学 > 第十一章 龋病发生的化学动力学
作者:樊明文 边 专
参编:
页码:159-161
版本:1
出版社:人民卫生出版社
出版时间:2003-10-01
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