[文献资料]第二节　应用领域

由于铟及其化合物有一些特异性质，使其在许多工业领域及人们的日常生活中都得到广泛应用，但真正大规模的应用，则仅是最近二三十年的事，特别是铟锡氧化物( Indinm-TinOxide ， ITO )用于制造平板显示器的导电薄膜和磷化铟( InP )用作半导体材料，推动了电子工业发展。制备ITO膜有多种方法，目前主要采用直流磁控溅射法，即在电场和交变的磁场作用下，加速高能粒子轰击铟锡合金靶或铟锡氧化物靶表面进行能量交换，使靶材表面原子溅出，并转移到基片(玻璃或聚酯膜)表面成膜的方法。目前， ITO靶材应用产业处 ......